|
Информация о статье
2007 г., Том 12, № 5, с.52-67
Горобчук А.Г., Григорьев Ю.Н.
Влияние ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в CF4/O2
На основе численного моделирования исследуется влияние ВЧ-разряда на процесс травления кремния в смеси тетрафторметана с кислородом в плазмохимическом реакторе. Показано, что понижение средней плотности энергетичных электронов в реакторе, вызванное добавкой кислорода, может снизить скорость травления в пределах до 30
[полный текст]
Библиографическая ссылка:
Горобчук А.Г., Григорьев Ю.Н. Влияние ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в CF4/O2 // Вычислительные технологии. 2007. Т. 12. № 5. С. 52-67
|
|
|
|
