| Инд. авторы: | Gorobchuk A.G. |
| Заглавие: | Numerical modeling of plasma-chemical etching technologies |
| Библ. ссылка: | Gorobchuk A.G. Numerical modeling of plasma-chemical etching technologies // Ion – surface interactions (ISI–2017): Proceedings of the XXIII International Conference (Moscow, Russia, 21 – 25 August 2017). - 2017. - Moscow: National Research Nuclear University «MEPhI». - P.248-250. |
| Внешние системы: | DOI: 10.1134.S1063776113010093; |
| Издано: | 2017 |
| Физ. характеристика: | с.248-250 |
| Конференция: | Название: XXIII Международная конференция "Взаимодействие ионов с поверхностью" Аббревиатура: ВИП 2017 Город: Москва Страна: Россия Даты проведения: 2017-08-21 - 2017-08-25 Ссылка: http://isi2017.spbstu.ru/ |
