В работе рассматривается технологический процесс плазмохимического травления кремния в смеси CF4/O2 с учетом  температурного воздействия активной среды на поверхность образца. Расчеты выполнены с использованием обобщенной физико-математической модели   плазмохимического травления, дополненной моделью сопряженного теплообмена «реакционная камера реактора — обрабатываемый образец — термостатированный электрод». В качестве основных источников тепловыделения в образце принимались ионная бомбардировка высокоэнергетичными частицами, ВЧ-разряд, конвективный теплообменом с рабочим газом, излучение плазмы и выделение тепла в экзотермических реакциях. Для решение уравнения баланса энергии в образце использовался метод конечных объемов. Полученные в результате аппроксимации системы линейных алгебраических уравнений решались методом прогонки. Исследовано влияние температурной неоднородности образца на технологический процесс плазмохимического травления.